Описание проекта

16 декабря 2020 года Михаил Мишустин подписал постановление правительства №2136 «Об утверждении Правил предоставления из федерального бюджета субсидий российским организациям на финансовое обеспечение мероприятий по проведению НИОКР в области средств производства электроники».

В ходе V конференции «Российская электроника» 28 июня 2022 года, замглавы Минпромторга Василий Шпак объявил о ближайшем проведении конкурса по субсидированию работ в рамках ПП2136 — электронное  машиностроение и САПР материалы, который состоится в августе. 

Вместе с тем  на сегодняшний день уже есть ряд компаний, которые уже приступили к реализации данных проектов. Одной из них стал Воронежский научно-исследовательский институт электронной техники. Специалистами института был разработан стенд для испытаний транзисторов ответственного применения. Оборудование предназначено для проведения термоэлектротренировки приборов. В мае 2021 года стенд прошел метрологическую экспертизу, был аттестован и в настоящее время используется для проведения испытаний изделий собственного производства, в первую очередь для космической отрасли. Учитывая успешный  опыт работы с новым стендом, было принято решение создать второй экземпляр оборудования. 

Однако НИИЭТ − не единственное предприятие, заинтересованное в подобном оборудовании. Опыт, полученный при создании стендов для собственных нужд, может стать базой для разработки и производства испытательного оборудования, в котором заинтересована отечественная электронная промышленность. 

В этой связи специалисты института предложили создать линейку из шести стендов для проведения электротермотренировки и испытаний на безотказность силовых полупроводниковых компонентов, включая не только транзисторы, но и диоды, стабилитроны и другие приборы. В состав линейки должны войти стенды, отличающиеся по режиму электрической нагрузки и количеству проходящих испытания. Уже в октябре 2021 года была удовлетворена заявка на субсидию на проведение НИОКР по данному оборудованию в соответствии с постановлением № 2136. Данная разработка  позволит  обеспечить высокое качество испытаний, которое достигается благодаря контактному методу термостатирования с помощью теплоотводящих плит с жидкостным теплообменом. Также ожидается, что стоимость оборудования будет существенно ниже, чем у импортных аналогов. Более того, разрабатываемые стенды смогут применяться для испытаний не только дискретных силовых компонентов, но и сборок и микросхем, таких как, например, усилители. 

В октябре 2021 года АО «НИИМЭ» совместно с АО НИИТМ приступил к созданию серии перспективных кластерных комплексов плазмохимического травления (ПХТ) и плазмохимического осаждения (ПХО). Конечным результатом станет разработка технологий уровня 65 нм и оборудования для производства ЭКБ на пластинах диаметром до 300 мм. 

Кластерный комплекс ПХТ предназначен для реализации процессов анизотропного травления глубоких отверстий в кремнии и удаления остатков полимеров после травления (TSV технология при создании интерпозеров), травления поликремниевых затворов и отверстий с гладкими стенками (STI), а также атомно-слоевого травления нанослоев кремния и оксида кремния под high-k диэлектрик (HKMG). 

В свою очередь комплекс ПХО позволит реализовать процессы низкотемпературного изотропного конформного осаждения, анизотропного осаждения изолирующих слоев, а также плазмостимулированного атомно-слоевого осаждения барьерных и затравочных слоев. 

Мировыми аналогами вышеупомянутых комплексов является установка Centura Avila 300 mm,  Applied Materials (США) и установка Gamma 300 mm, Lam Research (США). К концу 2022 года АО НИИТМ приступит к изготовлению экспериментальных образцов оборудования.

На сайте Зеленоградского нанотехнологического центра рассказывается об участии компании в реализации программы, направленной на локализацию технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами 350…130 нм с использованием полностью российского оборудования. 

В числе ключевых проектов в данной области − разработка отечественного оборудования для процессов фотолитографии. Данные работы реализуются ЗНТЦ совместно с ведущими российскими и белорусскими разработчиками микроэлектронного оборудования. «Наш проект направлен на разработку степпера для переноса на пластину рисунков с элементами размером до 130 нм. Оборудование будет состоять из специального оптического устройства, в том числе системы загрузки фотошаблонов, камеры с высокой точностью стабилизации температуры и программного обеспечения. Ключевым элементом системы станет отечественный лазер, работающий на длине волны 193 нм», − сообщил Анатолий Ковалев, генеральный директор АО «ЗНТЦ».

Вопросы разработки, изготовления и эксплуатации специального технологического оборудования для производства микроэлектроники, в том числе с участием представителей упомянутых предприятий, будут подняты на заседаниях секции № 9 Научной конференции «Специальное технологическое оборудование». Конференция состоится в рамках события года в мире электронных технологий − Российского Форума «Микроэлектроника 2022»  , который пройдет 2-8 октября 2022 года в Роза Хутор (г. Сочи).