23 сентября на площадке Российского форума «Микроэлектроника 2025» подписан договор на поставку первой отечественной установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм (фотолитографа) между Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) и «Отраслевыми решениями» (входят в Группу компаний «Элемент», резиденты ОЭЗ «Технополис Москва»), в развитие подписанного годом ранее соглашения ЗНТЦ и «Микрона» (входит в Группу компаний «Элемент»), резидента ОЭЗ «Технополис Москва».
Фотолитограф предназначен для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и мультипликации его на пластине при изготовлении сверхбольшой интегральной схемы (СБИС) с проектной топологической нормой 350 нм. Договор подписан генеральным директором АО «ЗНТЦ» Анатолием Ковалёвым и генеральным директором АО «Отраслевые решения» Дмитрием Ершом и предусматривает поставку, монтаж и пусконаладку оборудования.
«В ходе проекта мы совместно с ЗНТЦ работали над технологией переноса изображения под задачи «Элемента» и «Микрона». Подтверждено соответствие всем параметрам, заявленным в техзадании на ОКР», – отметила Гульнара Хасьянова, генеральный директор АО «Микрон», председатель совета директоров АО «Отраслевые решения».
«Сегодня мы закладываем фундамент нового этапа развития отечественной микроэлектроники. В ЗНТЦ завершена разработка установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм, её параметры подтверждены на производственной площадке, осуществляется переход к серийному производству. Это первый шаг в создании линейки российских литографов. Создан серьёзный задел, который позволяет нам перейти к разработке полностью локализованных установок с нормами 90 нм», – сказал Анатолий Ковалёв, генеральный директор АО «ЗНТЦ».
«Перед нами стоит задача запустить производство электронной компонентной базы мирового класса на преимущественно отечественном оборудовании и материалах. Литограф ЗНТЦ предназначен для топологических норм до 350 нм, которые используются в силовой электронике, автоэлектронике и промышленных системах», – пояснил Дмитрий Ерш, генеральный директор АО «Отраслевые Решения».
Установка совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм создана в рамках реализации одного из первых проектов госпрограммы по локализации в России технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами 350–130 нм для обеспечения технологической независимости и предназначена для модернизации существующих и оснащения новых микроэлектронных производств. Разработана и произведена в партнёрстве с белорусским ОАО «Планар». Основные характеристики фотолитографа представлены
на сайте ЗНТЦ.Соглашение о сотрудничестве в освоении технологий и производстве фотолитографического оборудования с нормами 350–90 нм для решения задач импортозамещения было подписано между ЗНТЦ и «Микроном» 24 сентября 2024 года.
Также в этот день АО «НЗПП ВОСТОК» (ГК «Элемент») и ЗНТЦ подписали соглашение о сотрудничестве, целью которого является отработка технологии на литографическом оборудовании наноцентра для серийного производства фотонных интегральных схем.
Развитие современной отрасли электронного машиностроения – важный фактор обеспечения технологического суверенитета электронной промышленности. «Микрон» – ведущая производственная площадка в отрасли, открыта для сотрудничества со всеми, кто заинтересован в развитии отечественной компонентной базы, локализации продукции, импортозамещении материалов и развитии русской инженерной школы, технологической базы и производства.