Мы используем cookie файлы, как и большинство сайтов в интернете. Гарантируем сохранность ваших персональных данных.
Вернуться назадОтечественные материалы для российской микроэлектроники
В условиях антироссийских санкций импортозамещение материалов для микроэлектроники стало актуально как никогда. Не менее важно иметь в виду, что перспективы развития микро- и наноэлектроники определяются поиском новых материалов и решений, на основе которых будет возможно создание принципиально новой электроники.
Стабильное обеспечение отечественной промышленности материалами требует организации их производства в сжатые сроки в нашей стране, что невозможно без поддержки государства. И такие меры принимаются Министерством промышленности и торговли Российской Федерации. Упомянем только два примера, о которых было сообщено в СМИ нынешней весной.
Как сообщил 6 марта 2023 года интернет-портал CNews, согласно информации на портале Единой автоматизированной системы «Закупки», Минпромторг России объявил о заказах научно-исследовательских работ (НИР) для организации производства на территории Российской Федерации целого ряда материалов, необходимых для микроэлектронного производства. В совокупности на эти цели министерство выделило 1,1 млрд руб.
В частности, Минпромторг России заказал НИР на разработку и постановку на производство особо чистого гексафторида вольфрама за 287,6 млн руб., бромистого водорода за 261,6 млн руб., реагента для измерения загрязнения пластин катионами металлов рентгено-флуоресцентным методом за 158 млн руб., прекурсоров триэтилбората и триэтилфосфата за 79,5 млн руб. Помимо этого, заказана разработка технологии производства прекурсов тетракис титана за 79,3 млн руб. и гидроксида тетраметиламмония за 187,3 млн руб. Все упомянутые НИР должны быть завершены 12 декабря 2024 года.
Все перечисленные выше материалы необходимы для изготовления интегральных микросхем и до введения санкций поставлялись в Россию из-за рубежа. Например, особо чистый гексафторид вольфрама используется при синтезе теллуритных стекол для герметизации интегральных схем. Разработка и постановка на производство химического соединения тетракис тинтана — это один из основных технологических процессов при изготовлении полупроводников с топологическими нормами 230-90 нм, отмечается в техзадании министерства.
16 марта сетевое издание Delta News сообщило, что Минпромторг России по итогам конкурса нашел подрядчика, который займется разработкой и освоением производства литографических материалов для микроэлектронного производства. Конкурс выиграло АО «Научно-исследовательский институт молекулярной электроники» (Зеленоград).
Актуальность НИР под шифром «Фотолиз» объясняется прекращением поставок по импорту фоторезистов и антиотражающих покрытий для изготовления субмикронных интегральных схем. Российское производство аналогичных материалов в настоящее время отсутствует.
Фоторезист − это светочувствительный полимерный материал, который наносят на обрабатываемый материал в ходе фотолитографии, чтобы получить на поверхности обрабатываемого материала «окна» для доступа травящих веществ. По итогам НИР подрядчик должен разработать и наладить производство фоторезистов пяти марок, а также двух видов антиотражающих покрытий. Для этого проведут теоретические и экспериментальные работы, разработают документацию технологического процесса, методики измерений параметров материалов и метрологической экспертизы.
Достижения и проблемы создания материалов микро- и наноэлектроники будут обсуждаться на заседаниях секции № 13 «Материалы микро- и наноэлектроники, диагностика материалов и элементов электронной компонентной базы», которая во второй раз включена в программу Научной конференции «ЭКБ и микроэлектронные модули». Поиск перспективных материалов для спинтроники и фотолитографии, разработка новой элементной базы на основе мемристоров для нейроморфных вычислительных сетей, наноэлектроника на основе сильнолегированных углеродных нанотрубок, создание эпитаксиальных пленок карбида кремния для микроэлектроники, разработка многослойных графеновых структур и атомногладких полупроводниковых пленок, высокочувствительных газоанализаторов и полимерных фоторезистов и целый ряд других материалов и технологий найдут свое отражение в работе секции. На ее заседаниях также будут обсуждаться методы материаловедения и диагностики материалов и элементной базы микроэлектроники.
Как сообщил 6 марта 2023 года интернет-портал CNews, согласно информации на портале Единой автоматизированной системы «Закупки», Минпромторг России объявил о заказах научно-исследовательских работ (НИР) для организации производства на территории Российской Федерации целого ряда материалов, необходимых для микроэлектронного производства. В совокупности на эти цели министерство выделило 1,1 млрд руб.
В частности, Минпромторг России заказал НИР на разработку и постановку на производство особо чистого гексафторида вольфрама за 287,6 млн руб., бромистого водорода за 261,6 млн руб., реагента для измерения загрязнения пластин катионами металлов рентгено-флуоресцентным методом за 158 млн руб., прекурсоров триэтилбората и триэтилфосфата за 79,5 млн руб. Помимо этого, заказана разработка технологии производства прекурсов тетракис титана за 79,3 млн руб. и гидроксида тетраметиламмония за 187,3 млн руб. Все упомянутые НИР должны быть завершены 12 декабря 2024 года.
Все перечисленные выше материалы необходимы для изготовления интегральных микросхем и до введения санкций поставлялись в Россию из-за рубежа. Например, особо чистый гексафторид вольфрама используется при синтезе теллуритных стекол для герметизации интегральных схем. Разработка и постановка на производство химического соединения тетракис тинтана — это один из основных технологических процессов при изготовлении полупроводников с топологическими нормами 230-90 нм, отмечается в техзадании министерства.
16 марта сетевое издание Delta News сообщило, что Минпромторг России по итогам конкурса нашел подрядчика, который займется разработкой и освоением производства литографических материалов для микроэлектронного производства. Конкурс выиграло АО «Научно-исследовательский институт молекулярной электроники» (Зеленоград).
Актуальность НИР под шифром «Фотолиз» объясняется прекращением поставок по импорту фоторезистов и антиотражающих покрытий для изготовления субмикронных интегральных схем. Российское производство аналогичных материалов в настоящее время отсутствует.
Фоторезист − это светочувствительный полимерный материал, который наносят на обрабатываемый материал в ходе фотолитографии, чтобы получить на поверхности обрабатываемого материала «окна» для доступа травящих веществ. По итогам НИР подрядчик должен разработать и наладить производство фоторезистов пяти марок, а также двух видов антиотражающих покрытий. Для этого проведут теоретические и экспериментальные работы, разработают документацию технологического процесса, методики измерений параметров материалов и метрологической экспертизы.
Достижения и проблемы создания материалов микро- и наноэлектроники будут обсуждаться на заседаниях секции № 13 «Материалы микро- и наноэлектроники, диагностика материалов и элементов электронной компонентной базы», которая во второй раз включена в программу Научной конференции «ЭКБ и микроэлектронные модули». Поиск перспективных материалов для спинтроники и фотолитографии, разработка новой элементной базы на основе мемристоров для нейроморфных вычислительных сетей, наноэлектроника на основе сильнолегированных углеродных нанотрубок, создание эпитаксиальных пленок карбида кремния для микроэлектроники, разработка многослойных графеновых структур и атомногладких полупроводниковых пленок, высокочувствительных газоанализаторов и полимерных фоторезистов и целый ряд других материалов и технологий найдут свое отражение в работе секции. На ее заседаниях также будут обсуждаться методы материаловедения и диагностики материалов и элементной базы микроэлектроники.
Научная конференция традиционно состоится в рамках ключевого информационного события года в мире электронных технологий − Российского форума «Микроэлектроника 2023», который пройдет 9−14 октября 2023 года в Парке науки и искусства «Сириус» Федеральной территории «Сириус».
***
Форум проводится при поддержке Министерства промышленности и торговли Российской Федерации, Группы компаний «Элемент». Организаторы Форума – АО «НИИМЭ» и АО «НИИМА «Прогресс». Генеральный партнер – Фонд перспективных исследований (ФПИ). Официальный партнер – АО «Крафтвэй корпорэйшн ПЛС» (торговая марка Kraftway). Инновационные партнеры – АО «ОКБ «Астрон», ООО «Лазерный центр». Партнер деловой программы – ООО «НМ-Тех». Спортивный партнер – АО «Микрон». Партнеры – ДЦ «ГеоСтар Навигация», АО «АИСА ИТ-Сервис», Фонд «Сколково», Группа компаний «ШТРИХ-М», АО «Эпиэл», ООО «Аэроб», АО «ЗНТЦ», ООО «Совтест АТЕ», Консорциум «Доверенные и экстремальные электронные системы» (НИЯУ МИФИ – АО «ЭНПО СПЭЛС»), ООО «Остек-ЭК». Оператор Форума – агентство деловых коммуникаций «ПрофКонференции». Генеральный информационный партнер – АО «РИЦ «ТЕХНОСФЕРА».
***
Форум проводится при поддержке Министерства промышленности и торговли Российской Федерации, Группы компаний «Элемент». Организаторы Форума – АО «НИИМЭ» и АО «НИИМА «Прогресс». Генеральный партнер – Фонд перспективных исследований (ФПИ). Официальный партнер – АО «Крафтвэй корпорэйшн ПЛС» (торговая марка Kraftway). Инновационные партнеры – АО «ОКБ «Астрон», ООО «Лазерный центр». Партнер деловой программы – ООО «НМ-Тех». Спортивный партнер – АО «Микрон». Партнеры – ДЦ «ГеоСтар Навигация», АО «АИСА ИТ-Сервис», Фонд «Сколково», Группа компаний «ШТРИХ-М», АО «Эпиэл», ООО «Аэроб», АО «ЗНТЦ», ООО «Совтест АТЕ», Консорциум «Доверенные и экстремальные электронные системы» (НИЯУ МИФИ – АО «ЭНПО СПЭЛС»), ООО «Остек-ЭК». Оператор Форума – агентство деловых коммуникаций «ПрофКонференции». Генеральный информационный партнер – АО «РИЦ «ТЕХНОСФЕРА».