Во второй день
компания НМ-Тех представит доклады по контролю дефектности и ионных загрязнений, литографии, осаждению медных и вольфрамовых плёнок, а также формированию ONO-структур. В программе – подкаст с компанией «Касперский» об угрозах ИБ на этапах жизненного цикла систем, оптимизация LDMOS-транзистора и калибровка моделей приборно-технологического моделирования.
🕘
9:00 – Начало работы стенда: «Исторический код» (видеоряд)
Утро: Контроль и литография• 10:00 – Контроль дефектности и ионных загрязнений (Ильин Д. А.)
• 10:20 – Применение фотомасок в литографии (Артамонова К. В.)
☕
10:40 – Перерыв: «Исторический код» (видеоряд)
День: Плёнки и структуры• 11:00 – Контроль толщин тонких металлических плёнок (Сергушов Н. А.)
• 11:20 – Электрохимическое осаждение медных плёнок (Подгурский О. Ю.)
☕
11:40 – Перерыв: «Исторический код» (видеоряд)
• 12:00 – Формирование ONO-структур (Волоховский А. Д.)
• 12:20 – Разработка медной металлизации (Игнатьева А. В.)
☕
12:40 – Перерыв: «Исторический код» (видеоряд)
После обеда: Вольфрам и безопасность• 13:00 – Оптимизация процесса ХМП вольфрама (Сарычев И. А.)
• 13:20 – Химическое осаждение вольфрама из газовой фазы (Майоров А. С.)
☕
13:40 – Перерыв: «Исторический код» (видеоряд)
• 14:00 – Подкаст с компанией «Касперский»: угрозы ИБ на этапах жизненного цикла систем (Лысенко Е. В.)
☕
14:40 – Перерыв: «Исторический код» (видеоряд)
Вечер: Приборы и моделирование• 15:00 – Оптимизация конструкции 65В LDMOS-транзистора (Лапин А. Е.)
• 15:20 – Методика калибровки моделей средств приборно-технологического моделирования полупроводниковых приборов с использованием алгоритмов оптимизации (Шарипов А. И.)
☕
15:40 – Перерыв: «Исторический код» (видеоряд)
• 16:00 – Проектирование знаков совмещения в БиКМОП (Шелкунов …)
• 16:20 – Травление глубокой щелевой изоляции в BCD (Ищенко (Дьячкова) Е. С.)
☕
16:40 – Перерыв: «Исторический код» (видеоряд)
🕕
18:00 – Закрытие стенда
📍
Где: стенд №117, компания НМ-Тех.
Когда: 09:00–18:00.
#
Микроэлектроника2026