Мы используем cookie файлы, как и большинство сайтов в интернете. Гарантируем сохранность ваших персональных данных.
СЕКЦИЯ №13

Материалы микро- и наноэлектроники, диагностика материалов и элементов электронной компонентной базы

30 сентября – 2 октября 2026 Университет «Сириус»
Руководитель секции
Рощупкин Дмитрий Валентинович
Доктор физико-математических наук, член-корреспондент РАН,
директор ФГБУН ИПТМ РАН
Заместитель руководителя секции
Бокарев Валерий Павлович
Доктор технических наук,
начальник отдела АО «НИИМЭ»
Развитие современной микро- и наноэлектроники требует поиска новых перспективных материалов с уникальными физическими свойствами и развитие новых методов диагностики. Этим задачам посвящена работа Секции №13 Российского форума «Микроэлектроника» «Материалы микро- и наноэлектроники, диагностика материалов и элементов электронной компонентной базы».

В рамках обсуждений докладов Секции будут расширены горизонты познаний и заложены основы технологического прорыва в области фундаментальных и поисковых научных исследований.

Поиск перспективных материалов для спинтроники и фотоники, разработка новой элементной базы на основе энергоэффективных мемристоров для нейроморфных вычислений, наноэлектроника на основе 1D и 2D материалов (углеродные нанотрубки, графен и графеноподобные материалов, наностержни ZnO, AlN, GaN), создание эпитаксиальных пленок карбида кремния для микроэлектроники, разработка атомарногладких полупроводниковых пленок, резистов для технологических процессов фотолитографии, электроннолучевой, ионнолучевой литографии, рентгеновской литографии и наноимпринтинга, множество других материалов, физических подходов и технологий найдут свое отражение в работе секции №14 «Материалы микро- и наноэлектроники, диагностика материалов и элементов электронной компонентной базы». Ведущие специалисты отрасли и исследователи-разработчики подготовили интересные доклады и готовы к широкой дискуссии с пытливой аудиторией слушателей.

Также поиск новых материалов и исследования их структурных и физических свойств неразрывно связан с развитием методов материаловедения и диагностики материалов и элементной базы микроэлектроники, так как только такой подход позволяет исследовать физические свойства материалов и определить их место в современной электронике. Здесь основными методами исследований и диагностики выступают методы просвечивающей и сканирующей электронной микроскопии, рентгеновской дифрактометрии, рентгеновской микроскопии и спектроскопии, методы нейтронографии и масс-спектрометрии с индуктивно связанной плазмой. Данные подходы позволяют изучать не только работу элементов ЭКБ в режиме реального времени, но и исследовать влияние отдельных дефектов кристаллической структуры на работу процессоров.

Цель работы Секции – выработать в ходе дискуссии новое, более глубокое понимание вызовов, стоящих перед отечественной наукой и наукоемкими отраслями промышленности, наметить пути и перспективы решения важнейших вопросов построения программы создания инновационных материалов и технологий для формирования передовой микро- и наноэлектроники как одного из базовых элементов наукоемкого технологического суверенитета Российской Федерации.

#спинтроника #фотоника #мемристоры #низкоразмерные материалы и структуры #нанокомпозиты – широкозонные полупроводники #углеродные нанотрубки #графен и графеноподобные материалы #искусственные алмазы #фоторезисты #атомарногладкие полупроводниковые пленки #эпитаксиальные наноструктуры #наностержни широкозонных полупроводников
Программа Секции №13
В программе возможны изменения
30 сентября 2026
09:00-09:20
Исследование процесса распространения поверхностных акустических волн методами рентгеновской дифрактометрии и топографии на источнике синхротронного излучения
д.ф.-м.н. Рощупкин Дмитрий Валентинович, ИПТМ РАН
09:20-09:40
СВЧ акустоэлектронные сенсоры на алмазной подложке с различными операционными модами для исследования свойств жидкостей и суспензий
д.ф.-м.н. Сорокин Борис Павлович, НИЦ «Курчатовский институт»
09:40-10:00
Влияние угла разориентации подложки на морфологию поверхности и примесный состав гомоэпитаксиальных CVD алмазных слоёв
к.ф.-м.н. Кан Василий Евгеньевич, АО «Диатек-Т»
10:00-10:20
Микроскопия высокого разрешения для контроля изделий микроэлектроники
к.ф.-м.н. Шахова Ярослава Эдуардовна, Сколтех
10:20-10:40
Эпитаксиальные структуры 4H-SiC диаметром до 150 мм для силовых приборов диапазона 1700-3300 В
к.т.н. Федотов Сергей Дмитриевич, АО «ЭПИЭЛ»
10:40-11:00
Теоретическое и экспериментальное обоснование выбора легирующих элементов для снижения коэрцитивного поля в сегнетоэлектрическом AlN
к.ф.-м.н. Чуприк Анастасия Александровна, МФТИ
11:00-11:30
КОФЕ-БРЕЙК
11:30-11:50
Физическая химия поверхности и её применение в технологии микро- и наноэлектроники.
д.т.н. Бокарев Валерий Павлович, АО «НИИМЭ»
11:50-12:10
Создание пористого высокоомного слоя в пластинах кремния для радиационно-стойких микросхем
к.ф.-м.н. Беклемишева Анна Владимировна, НИЦ «Курчатовский институт»
12:10-12:30
Функциональные оксидные полупроводниковые материалы
д.х.н. Винник Денис Александрович, МФТИ
12:30-12:50
Биосовместимые композиты на основе одностенных углеродных нанотрубок и белкового покрытия для тканевой инженерии
Покровская Анастасия Рудольфовна, МФТИ, Физтех
13:00-15:00
ОБЕД
15:00-15:20
ОНЛАЙН
Новое аналитическое оборудование для анализа энергонезависимых материалов с переменной фазовой структурой
к.ф.-м.н. Толкач Никита Михайлович, ООО «Активная фотоника»
15:20-15:40
Тепловизоры Optris в микроэлектронике: контроль температурных режимов и выявление дефектов
Антонов Александр Владимирович, Теккноу
15:40-16:00
Индустриальная модель подготовки кадров для научного приборостроения: опыт интеграции вузовской науки, молодёжных лабораторий и высокотехнологичного производства
к.т.н. Муратова Екатерина Николаевна, ООО «Активная фотоника»
16:00-16:20
ОНЛАЙН
Источник внешнего магнитного поля и магнитооптический модуль для сканирующей зондовой микроскопии магнитных материалов
Новиков Иван Александрович, ООО «Активная фотоника»
16:20-16:40
Генератор изображения электронного литографа с гауссовским пучком – РЭМ
к.ф.-м.н. Казьмирук Вячеслав Васильевич, ФГБУН ИПТМ РАН
16:40-17:00
Анодный материал на основе кремния для тонкопленочного литий-ионного аккумулятора
д.ф.-м.н. Рудый Александр Степанович, НИЦ «Курчатовский институт»
1 октября 2026
09:00-09:20
Разработка и серийное освоение технологий производства материалов для корпусирования микросхем
к.т.н. Пахомов Кирилл Сергеевич, ФИЦ ПХФ и МХ РАН
09:20-09:40
Участие ФИЦ ПХФ и МХ РАН в разработке материалов для электроники
к.х.н. Малков Георгий Васильевич, ФИЦ ПХФ и МХ РАН
09:40-10:00
Разработка технологий реакторного синтеза компонентов фоторезистов для DUV литографии: фотогенераторы кислот и функциональные мономеры
к.х.н. Аккуратов Александр Витальевич, ФИЦ ПХФ и МХ РАН
10:00-10:20
Формирование тонких плёнок позитивного резиста ELP-20 и его характеристики в электронно-лучевой литографии
д.ф.-м.н. Зайцев Сергей Иванович, ИПТМ РАН
10:20-10:40
Влияние способа экспонирования на чувствительность резиста для электронно-лучевой литографии
к.ф.-м.н. Князев Максим Александрович, ИПТМ РАН
10:40-11:00
Разработка комплексной модели поведения фоторезистов с химическим усилением
к.ф.-м.н. Шишлянников Антон Валерьевич, АО «НИИМЭ»
11:00-11:30
КОФЕ-БРЕЙК
11:30-11:50
Производство и разработка фоторезистов
Бурикова Анна Сергеевна, ООО «Фраст-М»
11:50-12:10
Модификация метода определения параметров химически усиленных фоторезистов с помощью измерений потерь их толщины
Литаврин Михаил Владимирович, АО «НИИМЭ»
12:10-12:30
Масштабируемый подход к получению диарилйодониевых солей для химически усиленных фоторезистов
к.х.н. Кузнецов Илья Евгеньевич, ФИЦ ПХФ и МХ РАН
12:30-12:50
Прямой и инверсный дизайн бинарного сополимера для электронно-лучевой литографии на основе ПMMA-подобных систем
к.ф.-м.н. Кравченко Игорь Витальевич, ФИЦ ПХФ и МХ РАН
13:00-15:00
ОБЕД
2 октября 2026
09:00-09:20
Технологии глубокой очистки и синтез высокочистых базовых материалов для микроэлектроники и фотоники
д.т.н. Мочалов Леонид Александрович, ННГУ им. Н. И. Лобачевского
09:20-09:40
Лазерно-индуцированное изготовление нанокомпозитов наноматериал/полимер для элементов гибкой и растягивающейся электроники
к.х.н. Липовка Анна Анатольевна, НИ ТПУ
09:40-10:00
Гибкие нейроимплантаты на основе парилена для систем биосенсорики и нейромодуляции
к.т.н. Марков Александр Геннадьевич, Сеченовский Университет
10:00-10:20
Влияние структуры меламинофенолформальдегидной смолы на свойства материала для очистки пресс-форм при корпусировании
к.х.н. Курбатов Владимир Геннадьевич, ФИЦ ПХФ и МХ РАН
10:20-10:40
ОНЛАЙН
ПАВ для безметального проявителя и освоение его микротоннажного производства
к.х.н. Тарасов Александр Евгеньевич, ФИЦ ПХФ и МХ РАН
10:40-11:00
Влияние особенностей массопереноса на точность теплофизической модели резистивного переключения металлооксидногомемристора
к.т.н. Бобылев Андрей Николаевич, ТюмГУ
11:00-11:30
КОФЕ-БРЕЙК
11:30-11:50
ОНЛАЙН
Полевая эмиссия электронов гибридных 2D алмазографитовыхгетероструктур с беспримесным электронным обогащением
д.т.н. Яфаров Равиль Кяшшафович, ИРЭ
11:50-12:10
Контроль металлических загрязнений на поверхности кремниевых пластин на уровне 1·10⁸ атомов/см²
Голованёва Дарья Данииловна, АО «НИИМЭ»
12:10-12:30
ОНЛАЙН
Исследование методами спектроскопии кристаллического совершенства синтетических объёмных алмазов
к.ф.-м.н. Толкач Никита Михайлович, ООО «Активная фотоника»
12:30-12:50
Методика и аппаратная часть для реализации 3D-CD измерений полупроводниковых структур для нужд современной микроэлектроники
к.ф.-м.н. Кузнецов Евгений Владимирович, ООО «Активная фотоника»
13:00-15:00
ОБЕД